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JY-S100 PLUS離子濺射儀(噴金儀)

JY-S100PLUS 是一款桌上型冷態(tài)磁控濺射鍍膜系統(tǒng),標配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺,特別適用于各種表面形貌的非導電樣品在掃描電鏡成像中的高質(zhì)量鍍膜,也可滿足電極鍍膜,半導體等材料鍍膜的要求。

描述

JY-S100PLUS 是一款桌上型冷態(tài)磁控濺射鍍膜系統(tǒng),標配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺,特別適用于各種表面形貌的非導電樣品在掃描電鏡成像中的高質(zhì)量鍍膜,也可滿足電極鍍膜,半導體等材料鍍膜的要求。

主要特性

  • 通過新型高效低壓直流磁控頭進行“超冷”濺射,避免樣品表面受損;
  • 對于近距離的樣品,新型磁控管設(shè)計可提供廣角覆蓋濺射;
  • 用于泄氣、吹掃和排氣的獨立電磁閥設(shè)計,確保設(shè)備的快速運行;
  • 噴鍍電流控制不受樣品室內(nèi)氣壓影響,可得到一致的鍍膜速率和最佳的鍍膜效果。
  • 可使用多種金屬靶材:Pt, Au, Au/Pd, Pt/Pd(Pt 靶為標配),靶材更換快速方便。

技術(shù)參數(shù)

濺射系統(tǒng)

靶材Pt 靶為標配,可選 Au,直徑 57mm x 0.1mm 厚
標配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺旋轉(zhuǎn)速度:0~60rpm 連續(xù)可調(diào),傾斜角度:-45°~ 45°連續(xù)可調(diào);

不銹鋼腔體:直徑 120mm X 高 75mm;

觀察窗:直徑 120mm X 高 45mm;

標配旋轉(zhuǎn)臺直徑 40mm,可放 4 個標準樣品臺,其它規(guī)格可訂做;具有雙重鎖緊裝置,可確保樣品在旋轉(zhuǎn)傾斜時不會松動脫落。

濺射電流微處理器控制,安全互鎖,電流 5~40mA
濺射頭新型低電壓磁控管設(shè)計,靶材更換快速,環(huán)繞暗區(qū)護罩
計量表真空: Atm ~3pa,電流:0~99mA
 

控制方法

帶有“開始”“暫?!卑粹o的微處理控制器(1-999s),自動抽氣、濺射、關(guān)機后自動放氣。

真空泵

抽氣速率133L/MIN
極限真空0.05pa
噪音56dB

關(guān)于JY-S100 PLUS離子濺射儀(噴金儀)