描述

氮化硅支持膜：氮化硅支持膜是硅片上生長(zhǎng)了一層氮化硅膜，主要用于納米技術(shù)和分子生物研究，它的優(yōu)點(diǎn)是化學(xué)和機(jī)械性能穩(wěn)定耐腐蝕，可以承受高達(dá)1000°C的溫度變化。適合直接在氮化硅支持膜上對(duì)顆?；蚣?xì)胞進(jìn)行各種納米技術(shù)實(shí)驗(yàn)。應(yīng)用領(lǐng)域：FIB樣品支撐，細(xì)胞生物學(xué)（附著的細(xì)胞可以直接在支持膜上的環(huán)境中生長(zhǎng)，然后進(jìn)行分析）、分析膠體，氣溶膠，納米顆粒、自組裝單層、高分子研究、薄膜研究（直接沉積在氮化硅支持膜上）、材料科學(xué)、半導(dǎo)體器件的納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)、半導(dǎo)體：薄膜表征、催化劑研發(fā)。

膜厚度：彈性，超低應(yīng)力8、15、35或50nm，可產(chǎn)生最小吸收，從而實(shí)現(xiàn)清晰的成像；堅(jiān)固，低應(yīng)力的100nm和200nm，可在多個(gè)平臺(tái)上更好地處理和使用；窗口尺寸： 0.25 x 0.25mm，0.5 x 0.5mm，0.75 x 0.75mm，1.0 x 1.0mm，0.5 x 1.5mm以及具有3 x 3陣列的9個(gè)0.1 x 0.1mm窗口或2個(gè)0.1x 1.5毫米窗口的窗口版本。較大的窗口可提供更大的可視區(qū)域，例如，可以實(shí)現(xiàn)層析成像應(yīng)用所需的更大的傾斜角度。具有多個(gè)窗口的版本允許將多個(gè)樣本安裝在單獨(dú)的窗口上。表面粗糙度： RMS（Rq）為0.65 +/- 0.06nm，平均粗糙度（Ra）為0.45 +/- 0.02nm。貨號(hào)21510-10到21579-10。

親水性氮化硅支持膜：親水性表面使水溶液在支持膜上的潤(rùn)濕性和分散性得到改善，避免了使用親水性較差支持膜時(shí)常出現(xiàn)的顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象，尤其適用于水溶液與生命科學(xué)研究。貨號(hào)21553-10到21551-10。疏水性氮化硅支持膜：疏水表面改善了溶解或懸浮在有機(jī)溶劑中的材料的制樣效果。有機(jī)溶劑中的納米顆粒（例如碳納米管）易于分散在氮化硅膜表面。貨號(hào)21593-10到21591-10。

AFM鍍氮化硅圓片：3mm圓片兩面均有一層50nm厚的超低張力氮化硅膜。用于AFM中需要用到氮化硅背景的場(chǎng)合。產(chǎn)品規(guī)格：膜厚： 兩面均含50nm超低張力氮化硅膜；圓片厚度： 200μm硅基底；圓片直徑： 3mm；表面粗糙度：RMS（Rq）為0.65 +/- 0.06nm，平均粗糙度（Ra）為0.45 +/- 0.02nm。

CLEM氮化硅支持膜:擁有兩個(gè)平行斷面的氮化硅支持膜，該框架有助于樣品對(duì)齊，方便做光電關(guān)聯(lián)顯微鏡實(shí)驗(yàn)。CLEM窗口的厚度為200μm，直徑為3mm，兩側(cè)有兩個(gè)1mm長(zhǎng)的平行平邊緣。氮化硅膜有四種不同的厚度：15 nm，50 nm，100 nm和200 nm，孔徑范圍從0.1 x 0.1mm到1 x 1mm。貨號(hào)21560CL-10到21528CL-10和21518-10.

多孔氮化硅支持膜：用MEMS制造工藝制造的多孔氮化硅支持膜，該多孔氮化硅支持膜是在3mm的硅片上有一個(gè)0.5mm x 0.5mm的窗口，窗口上有一張的低應(yīng)力厚度為200nm的無(wú)定形氮化硅陣列孔支持膜。共有十二種孔徑可供選擇，范圍從100nm至5μm，陣列孔數(shù)90 x 90到1125 x 1125個(gè)。貨號(hào)21536-10到21585-10。

氮化硅X射線支持膜：尺寸分為10mm和5mm氮化硅片以及0.5mm，1mm或2mm單方形窗口。氮化硅膜厚度為50、100或200nm。貨號(hào)21901-10到21929-10。